國內(nèi)外相關(guān)標(biāo)準對潔凈室的正壓值都作了規(guī)定。例如美國聯(lián)邦標(biāo)準FS-209b中規(guī)定潔凈室與任何相鄰的低潔凈度區(qū)域之間的zui小正壓差為13Pa（0.05in水柱）美國宇航局標(biāo)準NASA NHB 5340.2的規(guī)定值與FS-209b相同。
日本的規(guī)定如下：
不同級別潔凈室之間zui小壓差為5Pa；潔凈室和準潔凈室之間zui小壓差為10Pa；潔凈室和一般房間之間zui小壓差為15Pa。
我國《潔凈廠房設(shè)計規(guī)范》(GBJ 73-84)第5.2.1條規(guī)定“潔凈室必須維持一定的正壓。不同等級的潔凈室以及潔凈區(qū)與非潔凈區(qū)之間的靜壓差，應(yīng)不小于5Pa，潔凈區(qū)與室外的靜壓差，不應(yīng)小于lOPa。”新規(guī)范GB50073 - 2001有關(guān)壓差的規(guī)定與上述規(guī)定一致。
藥品生產(chǎn)管理規(guī)范(GMP)實施指南也有類似的規(guī)定。第2.1.4.2條“壓差”中作了如下說明：“潔凈室必須維持一定的正壓，可通過使送風(fēng)量大于排風(fēng)量的辦法達到。不同等級的潔凈室以及潔凈區(qū)與非潔凈區(qū)之間的靜壓差應(yīng)大于或等于5Pa，潔凈區(qū)與室外的靜壓差應(yīng)大于或等于lOPa。藥品生產(chǎn)質(zhì)量管理規(guī)范(1998年修訂)第十六條給出了同樣的壓差規(guī)定，但特別強調(diào)“并應(yīng)有指示壓差的裝置”，以便及時檢查。工藝過程產(chǎn)生大量粉塵、有害物質(zhì)、易燃易爆物質(zhì)的工序，其操作室與其他房間或區(qū)域之間應(yīng)保持相對負壓。”此條后半部分結(jié)合了制藥工藝的特點，特別指明某些生產(chǎn)工藝過程產(chǎn)生粉塵及其他有害物質(zhì)時，維持與其他區(qū)域的相對負壓，防止有害物擴散并污染其他區(qū)域也是壓控制的一個重要方面。
正壓控制的方式如上所述，如能維掎送入室內(nèi)的空氣量適當(dāng)?shù)囟嘤跈C械回風(fēng)和機械排風(fēng)量，則可維持室內(nèi)一定的正壓值。此時，在室內(nèi)外靜壓差的作用下，通過圍護結(jié)構(gòu)不嚴密處向外滲漏的風(fēng)量與機械進、出風(fēng)量的差額相等。問題在于機械進風(fēng)與出風(fēng)并不是經(jīng)調(diào)整后就不變化了。對于空調(diào)凈化系統(tǒng)來說，新風(fēng)一送風(fēng)通路將因過濾器積塵而造成阻力變化，從而影響風(fēng)量。排風(fēng)設(shè)備可能有開、有停。此外，與樓道、室外相鄰還會因熱壓、風(fēng)壓的變化影響房間的正壓。
因此潔凈室的正壓值需要經(jīng)常進行檢查，并依此對新、送、回、排風(fēng)通路的閥門作出相應(yīng)的調(diào)整。通常這種調(diào)整是階段性的，而每時每刻適應(yīng)機械進、出風(fēng)量的變化，維持室內(nèi)正壓的一種機械裝置是余壓閥。通常將余壓閥裝置在潔凈室下風(fēng)側(cè)墻下部，與同風(fēng)U高度取齊。余壓閥是一個受排風(fēng)風(fēng)壓托起的單片閥，鉸鏈或活頁在閥片上方。閥片上有可沿垂直于鉸鏈方向的導(dǎo)捍滑動的重塊。重塊越靠下，其力矩越大需更大的風(fēng)壓才能把閥片托起。